本文描述一种设备,所述设备可以包括:光学放大器,所述光学放大器具有包括波长λ
1.一种设备,包括:光学放大器,所述光学放大器具有包括波长λ₁和λ₂的增益带,其中λ₁≠λ₂;预脉冲种子激光器,所述预脉冲种子激光器具有用于把预脉冲输出调谐到波长λ₁的调谐模块;主脉冲种子激光器,所述主脉冲种子激光器产生具有波长λ₂的激光输出;以及光束组合器,用于在公共路径上引导预脉冲输出和主脉冲输出穿过光学放大器。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述调谐模块包括光栅。
3.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器和所述主脉冲种子激光器具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于公共振动分支中的旋转线。
4.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器和所述主脉冲种子激光器具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线。
5.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器和所述主脉冲种子激光器具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线,而其中所述振动分支不共享公共的上能级。
6.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器包括低于大气压的、密封的、射频放电的、CO₂激光器。
7.一种用于照射靶材料以产生极紫外(EUV)光的设备,所述设备包括:光学放大器,所述光学放大器具有包括波长λ₁和λ₂的增益带,其中λ₁≠λ₂;预脉冲种子激光器,所述预脉冲种子激光器产生具有波长λ₁以及脉冲能量E_PP的预脉冲输出,其中所述预脉冲种子激光器包括调谐模块;主脉冲种子激光器,所述主脉冲种子激光器产生具有波长λ₂以及脉冲能量E_MP的主脉冲输出,其中E_MP<1000×E_PP;以及光束组合器,用于把预脉冲输出和主脉冲输出引导到公共光束路径上穿过所述光学放大器。
8.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述调谐模块包括光栅。
9.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器和所述主脉冲种子激光器具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于公共振动分支中的旋转线。
10.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述光学放大器具有包括CO₂的增益介质,并且产生预脉冲放大器输出脉冲能量E_PP-AMPED和主脉冲放大器输出脉冲能量E_MP-AMPED,其中E_MP-AMPED>10×E_PP-AMPED。
11.如权利要求7所述的设备,其特征在于,E_MP<10×E_PP。
12.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器包括低于大气压的、密封的、射频放电的、CO₂激光器。
13.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器和所述主脉冲种子激光器具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线。
14.如权利要求7所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器和所述主脉冲种子激光器具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线,并且其中所述振动分支不共享公共的上能级。
15.一种设备,包括:光学放大器,所述光学放大器具有包括CO₂的增益介质;预脉冲种子激光器,所述预脉冲种子激光器产生具有波长λ₁的预脉冲输出,所述预脉冲种子激光器包括用于把预脉冲输出调谐到波长λ₁的调谐模块;主脉冲种子激光器,所述主脉冲种子激光器产生具有波长λ₂的主脉冲输出,其中λ₁≠λ₂,并且λ₁和λ₂对应于相同的CO₂增益介质振动分支中的旋转线;以及光束组合器,用于在公共路径上引导预脉冲输出和主脉冲输出穿过所述光学放大器。
16.如权利要求15所述的设备,其特征在于,所述调谐模块包括光栅。
17.如权利要求15所述的设备,其特征在于,所述预脉冲种子激光器包括低于大气压的、密封的、射频放电的、CO₂激光器。
18.如权利要求15所述的设备,其特征在于,所述光束组合器包括分色光束组合器,并且通过所述振动分支中的至少三根旋转线来隔开所述λ₁和所述λ₂。有关申请的交叉参考本申请要求2011年3月31日提交的美国发明专利申请13/077,236号的权益以及2010年6月24日提交的美国临时申请61/398,452号的权益,这两个申请的标题都是“MASTERxa0OSCILLATOR-POWERxa0AMPLIFIERxa0DRIVExa0LASERWITHxa0PRE-PULSExa0FORxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE”且代理人案件号为2009-0038-01,这里结合其完整的内容作为参考。本申请涉及档案号为2006-0065-01的、题为DRIVExa0LASERxa0FORxa0EUVLIGHTxa0SOURCE的、于2007年12月20日提交的、序列号为12/004,905的美国专利申请;档案号为2007-0010-02的、题为LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAEUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2007年4月10日提交的、序列号为11/786,145的美国专利申请;档案号为2007-0030-01的、题为LASERxa0PRODUCEDPLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCExa0HAVINGxa0Axa0DROPLETxa0STREAMxa0PRODUCEDUSINGxa0Axa0MODULATEDxa0DISTURBANCExa0WAVE的、于2007年7月13日提交的、序列号为11/827,803的美国专利申请;档案号为2005-0085-01的、题为LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCExa0WITHxa0PRE-PULSE的、于2006年2月21日提交的、序列号为11/358,988的美国专利申请;档案号为2004-0008-01的、题为METHODDxa0ANDxa0APPARATUSxa0FORxa0EUVxa0PLASMASOURCExa0TARGETxa0DELIVERY的、于2005年2月25日提交的、序列号为11/067,124的美国专利申请;档案号为2005-0003-01的、题为LPPxa0EUVPLASMAxa0SOURCExa0MATERIALxa0TARGETxa0DELIVERYxa0SYSTEM的、于2005年6月29日提交的、序列号为11/174,443的美国专利申请;档案号为2005-0102-01的、题为SOURCExa0MATERIALxa0DISPENSERxa0FORxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2006年2月21日提交的、序列号为11/358,983的美国专利申请;档案号为2005-0081-01的、题为LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2006年2月21日提交的、序列号为11/358,992的美国专利申请;档案号为2005-0044-01的、题为LPPxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCExa0DRIVExa0LASERxa0SYSTEM的、于2005年6月29日提交的、序列号为11/174,299的美国专利申请;档案号为2006-0003-01的、题为ALTERNATIVExa0FUELSxa0FORxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2006年4月17日提交的、序列号为11/406,216的美国专利申请;档案号为2006-0025-01的、题为DRIVExa0LASERxa0DELIVERYxa0SYSTEMSxa0FORxa0EUVxa0LIGHTSOURCE的、于2006年10月13日提交的、序列号为11/580,414的美国专利申请;档案号为2006-0006-01的、题为LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVLIGHTxa0SOURCE的、于2006年12月22日提交的、序列号为11/644,153的美国专利申请;档案号为2006-0027-01的、题为EUVxa0OPTICS的、于2006年8月16日提交的、序列号为11/505,177的美国专利申请;档案号为2006-0001-01的、题为DRIVExa0LASERxa0FORxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2006年6月14日提交的、序列号为11/452,558的美国专利申请;题为LONGxa0DELAYxa0ANDxa0HIGHTISxa0PULSExa0STRETCHER的、Webb等人于2005年8月9日授权的专利6,928,093号;档案号为2004-0144-01的、题为CONFOCALxa0PULSExa0STRETCHER的、于2006年3月31日提交的、美国申请11/394,512号;档案号为2004-0128-01的、题为SYSTEMSxa0ANDxa0METHODSxa0FORxa0IMPLEMENTINGxa0ANxa0INTERACTIONBETWEENxa0Axa0LASERxa0SHAPEDxa0ASxa0Axa0LINExa0BEAMxa0ANDxa0Axa0FILMxa0DEPOSITEDONxa0Axa0SUBSTRATE的、于2005年5月26日提交的、美国申请11/138/001号;题为LASERxa0LITHOGRAPHYxa0LIGHTxa0SOURCExa0WITHxa0BEAMxa0DELIVERY的、于2002年5月7日提交的、美国申请10/141,216号,现为美国专利6,693,939号;题为VERYxa0NARROWxa0BAND,TWOxa0CHANBER,HIGHxa0REPxa0RATExa0GASDISCHARGExa0LASERxa0SYSTEM的、Knowles等人于2003年9月23日授权的、美国专利6,625,292号;档案号2001-0090-01的,美国申请10/012,002号;档案号为2001-0020-01的、题为INJECTIONxa0SEEDEDxa0LASERxa0WITHxa0PRECISETIMINGxa0CONTROL的、NESS等人于2003年4月15日授权的、美国专利6,549,551号;档案号为2001-0084-01的、美国申请号为09/943,343的、题为VERYxa0NARROWxa0BAND,TWOxa0CHAMBER,HIGHxa0REPxa0RATExa0GASDISCHARGExa0LASERxa0SYSTEM的、Myers等人于2003年5月20日授权的、美国专利6,567,450号;以及档案号为2005-0086-01的、题为SOURCExa0MATERIALCOLLECTIONxa0UNITxa0FORxa0Axa0LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVLIGHTSOURCE的、于2006年8月25日提交的、序列号为11/509,925的美国专利申请;这里结合每个文件的完整内容作为参考。技术领域
本申请涉及极紫外(“EUV”)光源,该光源从源材料产生的等离子体中提供EUV光,并且收集以及引导到一个焦点,以便在EUV光源腔室的外部利用,例如,用于半导体集成电路制造光刻,例如,在波长约为100nm或以下的情况中。
背景技术
可以在光刻过程中使用极紫外(“EUV”)光[例如,波长约为5-100nm或更小的电磁辐射(有时还称之为软x射线),并且包括波长约为13nm的光],以在基板(例如,硅晶片)中产生极小的特征。产生EUV光的方法包括,但是并不必然地局限于,把材料转换成具有诸如氙、锂或锡之类元素的、具有EUV范围内的发射线的等离子体状态。在经常称之为激光产生等离子体(“LPP”)的一个如此的方法中,可以通过用激光束照射靶材料(例如,以材料的液滴、流或簇的形式)来产生要求的等离子体。对于这个过程,一般在密封容器中(例如,真空腔室中)产生等离子体,并且使用各种类型的计量设备进行监视。除了产生EUV辐射之外,一般,这些等离子体过程还在等离子体腔室中产生不需要的副产品,这可以包括带外辐射、高能量离子以及残渣,例如,靶材料的原子和/或团块/微滴。这些等离子体形成的副产品可能使各种等离子体腔室光学元件发热、损坏或减小工作效率,这些光学元件包括,但是不局限于,包括在正常入射时能实现EUV反射的多层反射镜(MLM)的集光镜,和/或掠入射镜,计量检测器的表面,用来使等离子体形成过程成像的窗口以及激光输入窗口。热、高能量离子和/或残渣会以多种方式使光学元件损坏,包括以减小光发射的材料来涂覆这些元件、穿透到元件中,以及例如,损坏结构的完整性和/或光学特性,例如,在短波长情况下的镜子反光能力,腐蚀或侵蚀这些元件和/或扩散到这些元件中。因此,一般要求减小等离子体产生残渣的量和/或影响。在此之前,已经揭示了LPP系统,其中通过分立的激光脉冲照射液滴流中的液滴以从每个液滴形成等离子体。同样,已经揭示了一些系统,其中通过不止一个光脉冲顺序地照射每个液滴。在某些情况中,使每个液滴暴露于所谓的“预脉冲”和所谓的“主脉冲”下,然而,应该理解,可以使用不止一个预脉冲以及可以使用不止一个主脉冲,而预脉冲和主脉冲的作用会有一定程度的重叠。一般,预脉冲会影响一些或全部的靶材料使之发热、膨胀、气化、蒸发、电离而产生弱等离子体和/或产生强等离子体,而主脉冲的作用是把大多数或全部受到预脉冲影响的材料转换成等离子体,从而产生EUV光发射。在某些情况中,由于材料的较大横截面暴露于主脉冲而预脉冲会增加材料/脉冲相互作用的效率,由于材料的密度降低而主脉冲能穿透到材料中较深处,或者两者都有。预脉冲的另一个优点是它可以使靶扩展到聚焦的主脉冲的大小,允许所有的主脉冲都能参与。如果使用相当小的液滴作为靶,并且照射光不能聚焦成小液滴的大小,则这是特别有利的。因此,在一些应用中,可能要求使用预脉冲来增加转换效率和/或允许使用相当小的,例如,所谓的质量有限的靶。使用相当小的靶依次会减少残渣的产生和/或减少源材料消耗。有了以上的设想,就需要使用一种特定的预脉冲能量来照射靶材料。几个因素会影响靶预脉冲能量的选择,包括靶材料液滴的大小以及对应的预脉冲焦点、用预脉冲瞄准液滴时得到的正确度水平、预脉冲脉冲持续期、预脉冲波长、EUV输出能量的要求水平、EUV转换效率以及预脉冲和/或主脉冲峰值强度。如上所指出的那样,产生EUV光的一种技术包括照射靶材料。在这方面,例如,用输出红外波长光的,例如,波长在约9.2μm到11.2μm的范围内的CO₂激光器作为在LPP过程中照射靶材料的驱动激光器可以呈现出某些优点。这对于某些靶材料是特别真实的,例如,包含锡的材料。例如,一个优点可以包括在驱动激光器输入功率和输出EUV功率之间具有产生相当高的转换效率的能力。CO₂驱动激光器的另一个优点可以包括具有从诸如已经涂有锡残渣的反射光学器件之类相当粗糙的表面反射相当长波长光的能力(例如,与193nm处的深紫外光进行比较)。10.6μm辐射的特性可以允许在等离子体附近使用反射镜,例如,进行操纵、聚焦和/或调节驱动激光束的焦度。在一些情况中,可能要求使用MoPa(主振荡器-功率放大器)配置来产生LPP过程中使用的相当高功率的主脉冲。在这种情况下,在某些情况下,用一些或全部主脉冲放大器来放大来自预脉冲种子激光器的预脉冲也是有利的。在这种情况下,可能要求使用一种预脉冲波长,该预脉冲波长实质上不会减小主脉冲波长的放大器增益。其它因素可能影响主脉冲和预脉冲波长的选择。例如,一般要求使用能产生最大的能量量值的主脉冲波长。同样,当使用透镜对脉冲进行聚焦时,可容忍的色差量会影响主脉冲和预脉冲波长的选择。此外,分色分束器/组合器的使用也会对主脉冲/预脉冲的选择引入限制。最后,诸如要求使用具有相当大脉冲上升时间的预脉冲之类的其它因素可能会限定所使用的预脉冲种子激光器的类型(例如,增益介质参数、放电类型、光学谐振腔等)。只能操作某些类型的种子激光器以在有限的输出能量范围内产生种子激光器输出脉冲能量。例如,可能存在一个脉冲能量范围,在这范围之外激光器是不稳定的以至于它不能被操作而产生一致的、可重复的激光器参数(诸如脉冲能量)。虽然可以把衰减器设置在种子激光器的下游以在某些情况下扩展其工作范围,但是使用衰减器会引起不希望有的复杂性,并且可能引起不必要的能量浪费。在一些情况下,可能存在一个脉冲能量范围,在这范围之外可能不能使用诸如计量检测器之类的光学仪器。这些种子输出脉冲能量的限制依次影响了在放大之后在液滴处产生要求的预脉冲靶能量所需要的预脉冲波长的选择,因为放大器增益取决于种子脉冲波长。有了以上的设想,申请文件揭示了用于EUV光源的具有预脉冲的主振荡器-功率放大器驱动激光器。
发明内容
如这里所揭示,在第一方面,揭示了一种设备,该设备可以包括:光学放大器,该放大器具有包括波长λ₁和λ₂的增益带,其中λ₁≠λ₂;预脉冲种子激光器,该预脉冲种子激光器具有把预脉冲输出调谐到波长λ₁的调谐模块;主脉冲种子激光器,该主脉冲种子激光器产生波长λ₂的激光输出;以及光束组合器,用于通过光学放大器在公共路径上引导预脉冲输出和主脉冲输出。在一个实施例中,调谐模块可以包括光栅。在一个特定实施例中,预脉冲种子激光器和主脉冲种子激光器可以具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于公共振动分支中的旋转线。在一个实施中,预脉冲种子激光器和主脉冲种子激光器可以具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线。在一个特定实施中,预脉冲种子激光器和主脉冲种子激光器可以具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线,而其中这些振动分支不共享公共的上能级(commonxa0upperxa0level)。在一个配置中,预脉冲种子激光器可以包括低于大气压的、密封的、射频放电的、CO₂激光器。同样是这里揭示的,在另一个方面,用于照射靶材料以产生极紫外(EUV)光的设备可以包括:光学放大器,该光学放大器具有包括波长λ₁和λ₂的增益带,其中λ₁≠λ₂;预脉冲种子激光器,该预脉冲种子激光器产生波长λ₁以及脉冲能量E_PP的预脉冲输出;主脉冲种子激光器,该主脉冲种子激光器产生波长λ₂以及脉冲能量E_MP的主脉冲输出,其中E_MP<1000×E_PP;以及光束组合器,用于通过光学放大器把预脉冲输出和主脉冲输出引导到公共光束路径上。在这个方面的一个实施例中,预脉冲激光器可以包括调谐模块。在一个特定实施中,调谐模块可以包括光栅。在这个方面的一个特定实施中,预脉冲种子激光器和主脉冲种子激光器可以具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于相同振动分支中的旋转线。在一个特定实施中,光学放大器可以具有包括CO₂的增益介质,并且产生预脉冲放大器输出脉冲能量E_PP-AMPED和主脉冲放大器输出脉冲能量E_MP-AMPED,其中E_MP-AMPED>10×E_PP-AMPED。在这个方面的一个实施中,E_MP<10×E_PP。在一个特定实施中,预脉冲种子激光器可以包括低于大气压的、密封的、射频放电的、CO₂激光器。在这个方面的一个特定实施中,预脉冲种子激光器和主脉冲种子激光器可以具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线。在这个方面的一个特定实施中,预脉冲种子激光器和主脉冲种子激光器可以具有包括CO₂的增益介质,而λ₁和λ₂对应于不同振动分支中的旋转线,并且振动分支不共享公共的上能级。同样是这里揭示的,在另一个方面,一种设备可以包括:光学放大器,该光学放大器具有包括CO₂的增益介质;预脉冲种子激光器,该预脉冲种子激光器产生波长λ₁的预脉冲输出;主脉冲种子激光器,该主脉冲种子激光器产生波长λ₂的主脉冲输出,其中λ₁≠λ₂,并且λ₁和λ₂对应于相同CO₂增益介质振动分支中的旋转线;以及光束组合器,用于通过光学放大器把预脉冲输出和主脉冲输出引导到公共路径上。在这个方面的一个特定实施中,种子激光器可以包括用于把预脉冲输出调谐到波长λ₁的调谐模块。在这个方面的一个特定实施中,调谐模块可以包括光栅。在这个方面的一个实施中,预脉冲种子激光器可以包括低于大气压的、密封的、射频放电的、CO₂激光器。在这个方面的一个特定实施中,光束组合器可以包括分色光束组合器,并且通过振动分支中的至少三根旋转线来隔开λ₁和λ₂。
附图说明
图1示出根据本揭示的一个方面的激光器产生的等离子体EUV光源的简化示意图;图2示出激光源的一个实施例的简化示意图,该激光源具有预脉冲种子激光器、主脉冲种子激光器以及公共放大器;图3示出激光源的另一个实施例的简化示意图,该激光源具有预脉冲种子激光器、主脉冲种子激光器以及公共放大器;图4示出激光源的另一个实施例的简化示意图,该激光源具有预脉冲种子激光器、主脉冲种子激光器以及公共放大器;图5示出激光源的另一个实施例的简化示意图,该激光源具有预脉冲种子激光器、主脉冲种子激光器以及公共放大器;图6示出波长可调谐的预脉冲种子激光器的一个实施例的简化示意图;图7示出主脉冲种子激光器的一个实施例的简化示意图;图8示出确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP的操作过程的一个例子;图9示出确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP的操作过程的另一个例子;图10示出当使用聚焦透镜使放大器输出聚焦在靶上时确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP的操作过程的另一个例子;图11示出色差导致具有波长λ₁的预脉冲光束聚焦在第一位置处时具有波长λ₂的主脉冲光束聚焦在离开第一位置为距离“d”的第二位置处;图12示出具有聚焦透镜的典型LPP系统中靶(液滴)上主脉冲激光器强度对预脉冲和主脉冲之间的波长差(λ_MP-λ_PP)标绘出的曲线图;以及图13-16示出表1-4,这些表包括在9R、10R、9P和10P振动分支中的旋转线的选中的数据。
具体实施方式
开始参考图1,图1示出EUV光源(例如,激光器产生的等离子体EUV光源20)的一个实施例的简化示意图。如图1所示,LPP光源20可以包括产生光和把光传送到腔室26的系统22。对于光源20来说,光可以沿一个或多个光束路径从系统22行进到腔室26中,以在照射区域28处照亮各个靶液滴。下面更详细地描述适用于图1所示的系统22的激光器配置的例子。图1还示出,EUV光源20还可以包括靶材料传送系统24,例如,把靶材料的液滴传送到腔室26内部而进入照射区域28,液滴在这里与一个或多个光脉冲(例如,零个、一个或更多个预脉冲)相互作用,并且此后与一个或多个主脉冲相互作用,最终产生等离子体,并且产生EUV发射。在档案号为2006-0067-02的、题为SYSTEMSxa0ANDxa0METHODSxa0FORxa0TARGETxa0MATERIALDELIVERYxa0INxa0Axa0LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2010年3月10日提交的美国专利申请12/721,317号、于2008年6月19日提交的、的美国专利申请12/214,736号;档案号为2007-0030-01的、题为LASERPRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCExa0HAVINGxa0Axa0DROPLETxa0STREAMPRODUCEDxa0USINGxa0Axa0MODULATEDxa0DISTURBANCExa0WAVE的、于2007年7月13日提交的美国专利申请11/827,803号;档案号为2005-0085-01的、在2006年11月16日作为US2006/0255298a-1出版的、题为LASERxa0PRODUCEDPLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCExa0WITHxa0PRE-PULSE、于2006年2月21日提交的、美国专利申请11/358,988号;档案号为2004-0008-01的、于2008年7月29日授权的、现在的美国专利申请7,405,416号、题为METHODxa0ANDAPPARATUSxa0FORxa0EUVxa0PLASMAxa0SOURCExa0TARGETxa0DELIVERY的、于2005年2月25日提交的美国专利申请11/067,124号;以及档案号为2005-0003-01的、于2008年5月13日授权的、现在的美国专利7,372,056、题为LPPxa0EUVPLASMAxa0SOURCExa0MATERIALxa0TARGETxa0DELIVERYxa0SYSTEM的、于2005年6月29日提交的美国专利申请11/174,443号中可以找到关于各种液滴机配置以及它们相应的优点的更详细的说明。这里结合这些专利的每一个作为参考。靶材料可以包括,但是不必定局限于,包含锡、锂、氙或它们的组合的材料。例如,锡、锂、氙等EUV发射元素可以是液体液滴的形式和/或包含在液体液滴中的固体粒子的形式。例如,使用的锡元素可以是纯锡、锡化合物,例如,SnBr₄、SnBr₂、SnH₄、锡合金,例如,锡-镓合金、锡-铟合金、锡-铟-镓合金或它们的组合。根据所使用的材料,可以在包括室温或接近室温的各种温度下使靶材料(例如,锡合金、SnBr₄)暴露于照射区域28、在提高的温度下使靶材料(例如,纯锡)暴露于照射区域28或在低于室温的温度下使靶材料(例如,SnH₄)暴露于照射区域28,在一些情况中,可以是相当不稳定的,例如,SnBr4。在2008年12月16日授权的美国专利7,465,946、档案号为2006-0003-01的、题为ALTERNATIVExa0FUELSxa0FORxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2006年4月17日提交的、序列号为11/406,216的美国专利申请中提供了关于LPPxa0EUV光源中这些材料的使用的更详细的说明,这里结合其内容作为参考。继续参考图1,EUV光源20还可以包括光学器件30,诸如具有反射表面的近法向入射集光镜(near-normalxa0incidencexa0collectorxa0mirror),例如,以具有涂敷钼和硅的交替层的分级多层的旋转椭球(即,围绕其主轴旋转的椭园)的形式,在一些情况中,是一个或多个高温扩散阻挡层、平滑层、覆盖层和/或蚀刻停止层。图1示出,可以形成光学器件30使之具有一个孔径,以便允许系统22产生的光脉冲通过而到达照射区域28。如图所示,例如,光学器件30可以是一个旋转椭球镜,该镜具有在照射区域28中或接近照射区域28的第一焦点以及在所谓的中间区域40处的第二焦点,其中可以从EUV光源20输出EUV光,并且输入到利用EUV光的设备,例如,集成电路光刻工具(未示出)。应该理解,可以使用其它光学器件代替旋转椭球镜来收集和引导光到中间位置以便以后传送到利用EUV光的一个设备,例如,光学器件可以是围绕其主轴旋转的抛物线,或可以配置成把具有环状横截面的光束传送到中间位置,例如,参见档案号为2006-0027-01的、题为EUVxa0OPTICS的、于2006年8月16日提交的、序列号为11/505,177的美国专利申请,这里结合其内容作为参考。图1还示出光源20可以包括具有一个或多个光学器件的光束调节单元42,以便在系统22和聚焦单元46之间对光束进行扩展、操纵、脉冲成形和/或成形。还可以提供光学隔离器(未示出)来保护系统22。在2006年8月8日授权的美国专利7,087,914的、档案号为2003-0125-01的、题为Axa0HIGHxa0REPETITIONRATExa0LASERxa0PRODUCEDxa0PLASMAxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2004年3月17日提交的、序列号为10/803,526的美国专利申请;2007年1月16日授权的美国专利7,164,144的、档案号为2004-0044-01的、题为EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2004年7月27日提交的、美国序列号为10/900,839的;以及在档案号为2009-0029-01的、题为BEAMxa0TRANSPORTxa0SYSTEMxa0FORxa0EXTREMEULTRAVIOLETxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2009年12月15日提交的、序列号为12/638,092的美国专利申请中提供关于光束调节的更详细的说明。对于源22,聚焦单元46可以包括一个或多个光学器件,用于把光束聚焦到照射现场处的焦点上。例如,聚焦单元可以包括一个或多个镜子、透镜、诸如消色差双透镜之类的消色差透镜、或它们的组合。如这里所使用的那样,术语“光学器件”以及它的衍生物包括,但是不必定局限于,反射和/或透射和/或操作入射光的一个或多个部件,包括,但是不必定局限于,一个或多个透镜、窗口、滤光器、楔子、棱镜、棱栅、光栅、传输光纤、标准具、漫射器、均质机、检测器以及其它仪器部件、孔径、旋转三棱镜以及包括多层镜、近法向入射镜、掠入射镜、镜面反射器、漫射反射器的一些镜子以及它们的组合。此外,除非另行指定,这里所使用的术语“光学器件”或其衍生物都不意味着对于一些部件的限制,这些部件单独工作或有利地在一个或多个特定的波长范围内工作,诸如在EUV输出光波长处,照射激光波长处、适用于计量学的波长处或一些其它的波长处。图2示出用在图1所示的光源20中的激光源22的一个例子。如图2所示,该激光源22可以包括产生一个输出的预脉冲种子激光器50,该输出通过公共放大器54引导到光束路径52上;以及产生一个输出的主脉冲种子激光器56,该输出通过公共放大器54引导到光束路径58上。在一些情况中,可以在放大器和种子激光器之间提供光学隔离器(未示出)以保护种子激光器。图3示出用在图1所示的光源20中的激光源22’的另一个例子。如图3所示,该激光源22’可以包括产生一个输出的预脉冲种子激光器50,该输出在从光学器件60反射后通过公共放大器54引导到公共光束路径52’上;以及产生一个输出的主脉冲种子激光器56,该输出通过光学器件60引导到公共光束路径58上和通过公共放大器54。对于图3所示的配置,光学器件60可以是分色光束组合器、偏振鉴别光束组合器或部分反射光束组合器。应该理解,可以修改这个配置以致通过光学器件60传输预脉冲种子激光输出,而通过光学器件60反射主脉冲种子激光输出。图4示出用在图1所示的光源20中的激光源22”的另一个例子。如图4所示,该激光源22”可以包括产生一个输出的预脉冲种子激光器50,该输出在从光学器件60反射后通过公共放大器54’引导到公共光束路径52’上;以及产生一个输出的主脉冲种子激光器56,该输出通过光学器件60引导到公共光束路径52’上和通过公共放大器54’。如进一步所示,放大器54’可以具有两个(或更多个)放大单元62、64,每一个都具有带有它自己的活性介质和激励源(例如,泵浦电极)的腔室。对于图3所示的配置,光学器件60可以是分色光束组合器、偏振鉴别光束组合器或部分反射光束组合器。应该理解,可以修改这个配置以致通过光学器件60传输预脉冲种子激光输出,而通过光学器件60反射主脉冲种子激光输出。图5示出用在图1所示的光源20中的激光源22”’的另一个例子。如图5所示,该激光源22”’可以包括放大器54”,该放大器具有两个(或更多个)放大单元62’、64’,每一个都具有它自己的活性介质和激励源,例如,泵浦电极。如进一步所示,可以提供产生一个输出的预脉冲种子激光器50,该输出在从光学器件60’反射后引导到公共光束路径58’上和通过公共放大单元64’。图5还示出可以提供产生一个输出的主脉冲种子激光器56,通过放大单元64’引导该输出然后通过光学器件60’引导到公共光束路径58’上并通过公共放大器54’。对于图3所示的配置,光学器件60’可以是分色光束组合器、偏振鉴别光束组合器或部分反射光束组合器。应该理解,可以修改这个配置以致通过光学器件60’传输预脉冲种子激光输出,而通过光学器件60’反射主脉冲种子激光输出。还应该理解,在光学器件60’和主脉冲种子激光器56之间可以设置不止一个放大单元和/或在公共光束路径58’上可以设置不止一个共享放大单元,以放大预脉冲种子激光输出和放大单元62’的输出两者。图6示出波长可调谐的预脉冲种子激光器50的一个实施例的简化示意图。如图所示,预脉冲种子激光器50可以包括通过光栅70、输出耦合器72、镜子74a、b以及光束路径76定义的光学腔。如进一步所示,光束路径76可以通过活性介质78。对于该配置,输出耦合器可以是部分反射光学器件,而光栅70可以是相对于入射光束设置在Littrow配置中的闪耀的、eschelle型的光栅。对于预脉冲种子激光器50,可以提供致动器80使光栅70旋转,并且改变预脉冲种子激光输出的中心波长。例如,致动器可以包括步进马达、压电元件/堆或组合步进马达/压电元件。其它致动器设计都是可能的。应该理解,可以用诸如棱镜/镜子配置、内部腔标准具或光栅/镜子组合之类的其它配置代替Littrow配置中的光栅。图6进一步示出可以提供诸如部分反射分光器或检测线圈镜(pickoffmirror)之类的光学器件81,以把预脉冲种子激光输出光束的诊断部分引导到检测器82。检测器82可以把表示中心波长的信号输出到控制电路84,这依次可以产生控制信号以驱动致动器80。图6进一步示出可以提供诸如声光调制(AOM)开关之类的开关86来控制光学腔的品质因数Q,并且提供脉冲重复率在20-150kHz范围内的脉冲激光输出。在一个设置中,预脉冲种子激光器50可以是CO₂激光器,在例如,通过射频放电泵浦的0.05-0.2atm的低于大气压的压力下,该CO₂激光器具有包括CO₂的密封气体。具有这个配置,可以旋转光栅把预脉冲种子激光器50调谐到表1-4中所示的旋转线中之一。在图2-5所示的配置中,还可以使用图6所示的可调谐种子激光器实施例作为主脉冲种子激光器56,或可以使用图7所示的更简化的激光器56实施例。如图所示,主脉冲种子激光器56可以包括通过全反射后镜90、输出耦合器92、镜子94a、b以及光束路径96定义的光学腔。如进一步所示,光束路径96可以穿过活性介质98。对于该配置,输出耦合器92可以是部分反射光学器件。图7进一步示出可以提供诸如声光调制(AOM)开关之类的开关96来控制光学腔的品质因数Q,并且提供脉冲重复率在20-150kHz范围内的脉冲激光输出。在一个设置中,主脉冲种子激光器56可以是CO₂激光器,在例如,通过射频放电泵浦的0.05-0.2atm的低于大气压的压力下,该CO₂激光器具有包括CO₂的密封气体。具有这个配置,主脉冲种子激光器可以自调谐到主要的线(dominantxa0lines)中之一,诸如波长为10.5910352的10P(20)线(见表1-4)。在一些情况中,可以提供致动器(未示出)来移动后镜90以防止模式跳跃。继续参考图2-5,可以看到每个配置包括具有一个或多个放大单元54、62、64、62’、64’的放大器54、54’、54”。对于预脉冲种子激光器50和主脉冲种子激光器56包括上述含CO₂的活性介质的情况,用作放大单元54、62、64、62’、64’的合适的激光器可以包括含通过DC或RF激励泵浦的CO₂气体的活性介质。在一个特定的实施中,放大器可以包括多个,诸如三个或四个,轴向流动的、RF泵浦(连续或用脉冲调制)的CO₂放大单元,这些放大单元具有约10-25米的总增益长度,并且一致以相当高功率工作,例如,10kW或更高。可以使用具有光纤、棒、板或盘状活性介质的其它类型的放大单元。在一些情况中,可以使用固体活性介质。图8示出确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP的操作过程的一个例子(虽然图8以特定的次序示出了步骤的安排,但是应该理解,可以修改一些或所有步骤的次序而不会负面地影响过程的结果)。考虑到了这一点,过程就可以从首先选择主脉冲波长λ_MP开始[方框200]。例如,如上所述,可以方便地使用主脉冲种子激光器,当通过放大器时该主脉冲种子激光器可以产生高功率并且自调谐到主要的波长,诸如10P(20)线,这样就不需要种子激光器调谐机构。选择了λ_MP,就可以建立放大器增益G(λ_MP),该放大器增益是在靶(例如,液滴)处产生所要求的主脉冲能量所需要的。这依次确定了放大器的小信号增益带,尤其,每个预脉冲种子激光器波长的预期的放大器增益G。表1-4(在图13-16中示出)示出用于选择CO₂旋转线的估计的小信号增益系数值g₀。更具体地,表1-4分别示出典型CO₂激光器的9R振动分支、10R振动分支、9P振动分支和10P振动分支中旋转线的波长以及每个旋转线发出的输出功率。可以从这些数据计算每个旋转线的功率P,诸如10P(20),P_10P(20),该功率P相对于具有已知放大器小信号增益SSG的波长的功率(例如,见表1;第4列)。表1还示出相对于选中线的小信号增益,在该情况中,可以使用Rigrod分析计算(10P20)线(第5列)如下:I_outxa0αxa0I_satxa0x[2g_oL_cavity–ln(1/R₁R₂)]其中L_cavity是光学腔长度,而R₁和R₂是典型CO₂激光器的镜面反射率。具体地,注意I=P/A,其中I是强度,而A是输出光束面积,可以从相对功率(表1-4的第4列)计算表1-4的第5列示出的相对增益(即,I_{out,selectedline}对I_out,10P20的比值)如下: I out , selectedline I out , 10 P 20 = I sat , selectedline x [ 2 g o , selectedline L cavity - ln ( 1 / R 1 R 2 ) ] I sat , 10 P 20 x [ 2 g o , 10 P 20 L cavity - ln ( 1 / R 1 R 2 ) ] ]]>假定I_{sat,selectedxa0line}/I_sat,10P20近似于1,然后可以解上述表达式以找到每根线的g_{o,selectedxa0line},因为假设g_o,10P20是已知的。有了这个小信号增益系数g_o,就可以使用表达式计算放大器增益G:G=exp[g_oL]其中L是放大器增益介质的长度。上述分析假设不同类型的CO₂激光器的小信号增益带的一般形状是近似地相同的。另外的方法可以包括测量所使用的特定放大器中感兴趣的具体线的小信号增益系数g_o。继续参考图8,可以看到,下一个过程步骤可以包括确定在源材料靶(例如,液滴)处的要求的预脉冲能量[方框202]。例如,对于直径在约10-100μm范围内的锡液滴,在靶处所要求的主脉冲能量可以在约300-700mJ的范围内,而在靶处所要求的预脉冲能量约为6-12mJ。应该理解,可以为了多种因素而调节这些要求的能量,这些因素诸如靶材料液滴的大小以及对应的预脉冲和主脉冲焦点大小、用预脉冲瞄准液滴可得到的正确度水平、预脉冲和主脉冲之间的延迟、预脉冲和主脉冲持续期、预脉冲波长、要求的EUV输出能量水平、要求的转换效率(CE)以及要求的预脉冲(膨胀的)等离子体的反射率。接着,如图8所示[方框204],较合适的是确定要使用的特定类型的预脉冲种子激光器的工作范围。具体地,这意味着确定在考虑激光器部件限制和/或稳定的激光器工作之后可以得到的输出脉冲能量范围。应该理解,许多因素会影响这类预脉冲种子激光器,包括成本、复杂度、效率、可靠性、诸如上升时间、持续期等激光器脉冲参数。在一些配置中,上述参考图6的预脉冲种子激光器50可以具有约0.01-1000μJ的脉冲能量输出工作范围。可以进一步把一些配置限制到约0.1-100μJ的脉冲能量输出范围。根据所使用的种子激光器的类型,对种子激光器脉冲能量输出可能还有其它的限制。一旦在主脉冲放大的最大能量获取方面已经对放大器进行了最优化并且已经建立了预脉冲工作范围,方框[208]-[216]就建议了选择预脉冲波长λ_PP的试验和误差方法。如所示,这可以包括使用上述方法并参考表1-4来选择用于分析的初始预脉冲λ[方框208]、估计选中λ的放大器小信号增益系数g₀以及放大器增益G[方框210]。接着,可以计算在靶处得到要求预脉冲能量E_PP-TARGET所必需的预脉冲种子输出脉冲能量E_PP-SEED[方框210]如下:E_PP-SEED=E_PP-TARGET/G并且与预脉冲激光器的输出脉冲能量工作范围进行比较[判断方框212]。如果选中的预脉冲种子输出脉冲能量E_PP-SEED在输出脉冲能量工作范围内[方框214],则选中的预脉冲λ是合适的。另一方面,如果选中的预脉冲种子输出脉冲能量E_PP-SEED在输出脉冲能量工作范围之外,则选中的预脉冲λ是不合适的,并且通过再执行方框[208]、[210]和[212],对另一个预脉冲波长进行分析[方框216]。然后按需要重复这个过程,直到得到合适的预脉冲波长。下面的例子示出具有四个放大单元的一个放大器的上述过程。在一些配置中,放大单元的增益长度、气体成分、气体压力等可以是不同的,因此可能具有不同的小信号增益系数g₀以及饱和能量E_sat,例如,见档案号为2006-0001-01的、题为DRIVExa0LASERxa0FORxa0EUVxa0LIGHTxa0SOURCE的、于2006年6月14日提交的、序列号为11/452,558的美国专利申请,这里结合其内容作为参考。对于这个例子,选中对应于10P(20)线的10.5910352μm的主脉冲波长λ_MP,并且指定500mJ的主脉冲靶能量。在这些选择的情况下,对于四个放大单元中每一个,可以测量增益曲线,并且可以计算Frantz-Nodvik拟合参数G₀和E_sat,因为假设了将通过主脉冲使一个或多个放大单元饱和。从靶返回工作,可以使用Frantz-Nodvik拟合参数G₀和E_sat计算第四、第三、第二、然后第一放大单元的要求的输入能量。例如,在具有总长度为16m的四个射频放电、轴流式放大单元的放大器配置中,计算得第一放大单元处要求的输入(即,主脉冲种子激光输出)为20μJ。还可以使每个放大单元计算得的Frantz-Nodvik拟合参数G₀相加以得到在选中的主脉冲波长λ_MP处的放大器的总小信号增益G(λ_MP)。一旦确定了主脉冲的小信号放大器增益G(λ_MP),就可以使用上面提供的过程连同表1的描述来估计放大器小信号增益带的部分或全部。继续计算具有总长度为16m的四个射频放电、轴流式放大单元的放大器的具体例子,计算得的总小信号增益G(λ_MP)为约6.926x10⁷。同样,对于这个例子,指定在10mJ靶能量处的预脉冲,并且设置0.01-1000μJ的脉冲能量输出工作范围。使用图8所示的过程,可以选择对应于线9R(18)的9.2824434μm的初始预脉冲λ。如表1所示,可以使用估计的1.064936811的小信号增益系数来计算2.47Exa007的放大器中的小信号增益SSG(λ)。具有这个小信号增益,可以看到,产生10mJ的靶能量所要求的预脉冲种子能量为约4E-04μJ,这在0.01-1000μJ的脉冲能量输出工作范围之外。因此,按照图8,选择另外的预脉冲λ。例如,可以选择对应于线9R(8)的9.3417579μm的预脉冲λ。如表1所示,可以使用估计的0.661695687的小信号增益系数来计算3.962E04的放大器中的小信号增益SSG(λ)。具有这个小信号增益,可以看到,产生10mJ的靶能量所要求的预脉冲种子能量约为2.5Exa001μJ,这在0.01-1000μJ的脉冲能量输出工作范围之内。图9示出确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP的操作过程的另一个例子(虽然图9中示出特定次序的步骤安排,但是应该理解,可以修改一些或全部步骤的次序而不会负面地影响过程的结果)。可以单独使用图9所示的工作过程来确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP,或可以与图8的过程一起使用。例如,当使用图8的过程已经发现多个预脉冲波长是可以接受的时候,然后就可以用图9的过程进一步处理这些波长以确定在两个过程中都合适的预脉冲波长。图9的过程可以开始于首先选择靶处要求的主脉冲能量[方框300]以及主脉冲波长λ_MP[方框302]。例如,如上所述,可以方便地使用主脉冲种子激光器,该主脉冲种子激光器当通过放大器时可以产生高功率并且可以自调谐到主要的波长(诸如10P(20)线)而不需用种子激光器调谐机构。具有选中的λ_MP,就可以建立主脉冲种子输出和放大器增益G(λ_MP),这是在例如液滴那样的靶处产生要求的主脉冲能量所需要的[方框304]。如上所述,这允许放大器的小信号增益带的估计,尤其,每个预脉冲种子激光器波长的预期的放大器增益G的估计。继续参考图9,可以看到,下一个过程步骤可以包括确定源材料靶(例如,液滴)处要求的预脉冲能量[方框306]。例如,对于直径在约10-100μm范围内的锡液滴,靶处要求的主脉冲能量可以在约300-700mJ的范围内,而靶处要求的预脉冲能量可以在约6-12mJ的范围内。如上所述,对于多个因素,可以调节要求的靶能量。接着,如图9中[方框308]所示,确定预脉冲激光输出脉冲能量对主脉冲激光输出脉冲能量的可接受的比值可能是合适的。在一些情况中,坚持可接受的比值可以使预脉冲种子输出实质上不耗尽主脉冲波长的放大器增益。例如,预脉冲激光输出脉冲能量对主脉冲激光输出脉冲能量的可接受的比值E_PP/E_MP<1000,在一些情况中,可能更严格地定义预脉冲激光输出脉冲能量对主脉冲激光输出脉冲能量的可接受的比值,诸如E_PP/E_MP<1000。同样,对于这些比值,设想预脉冲放大器输出脉冲能量E_PP-AMPED比主脉冲放大器输出脉冲能量E_MP-AMPED小一个数量级或更多,即,E_MP-AMPED>10xxa0E_PP-AMPED。继续图9的过程,方框[310]-[320]建议了一种试验和误差方法以在一旦建立了放大器增益和预脉冲激光输出脉冲能量对主脉冲激光输出脉冲能量的可接受的比值时选择预脉冲波长λ_PP。如所示,这可以包括使用上述方法并参考表1-4来选择用于分析的初始预脉冲λ[方框310],估计选中λ的放大器小信号增益系数g₀以及放大器增益G[方框312]。接着,可以计算在靶处得到所要求的预脉冲脉冲能量E_PP-TARGET所必需的预脉冲种子输出脉冲能量E_PP-SEED如下[方框314]:E_PP-SEED=E_PP-TARGET/G计算了预脉冲种子输出脉冲能量[方框314]以及计算了主脉冲种子能量[方框304],就可以确定它们的比值,并且与预脉冲激光输出脉冲能量对主脉冲激光输出脉冲能量的可接受的比值进行比较[方框316]。如果比值在可接受的范围内[方框318],则选中的预脉冲λ是合适的。另一方面,如果比值在可接受的范围外,则选中的预脉冲λ是不合适的,再执行方框[312]、[314]和[316]对另一个预脉冲波长进行分析[方框320]。然后按需要重复该过程直到得到合适的预脉冲波长。作为图9的过程的另一个变型,可以识别最小预脉冲种子能量以致主脉冲增益消耗是可接受的。然后最小预脉冲种子能量可以替代图9过程中的预脉冲激光输出脉冲能量对主脉冲激光输出脉冲能量的可接受的比值。与图8、9或它们的组合一起考虑的另一个因素是当预脉冲波长和主脉冲波长共享公共上能级时发生的增益消耗的效果。当这发生时,由于预脉冲放大引起的主脉冲增益消耗一般比预脉冲波长和主脉冲波长不共享公共上能级时更大。对于CO₂激光器,9R振动分支中所有的旋转线和10R振动分支中所有的旋转线共享公共上能级。同样在9P振动分支中的所有的旋转线和在10P振动分支中的所有旋转线共享公共上能级。选择主脉冲和预脉冲波长时要考虑的另一个因素是使用分色分光器和组合器。在这个方面,在主脉冲和预脉冲波长之间可以要求诸如约0.14μm的最小波长差,以通过分色光学器件得到>90%的组合效率。图10示出当使用聚焦透镜使放大器输出聚焦在靶(例如,液滴)上时确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP的工作过程的另一个例子(虽然图10示出特定次序的步骤安排,但是应该理解,可以修改一些或所有步骤的次序而不会负面地影响过程的结果)。可以单独使用图10所示的工作过程来确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP,或可以与图8或图9的过程或两者一起使用来确定预脉冲种子激光器的输出波长λ_PP。此外,在选择合适的预脉冲波长λ_PP时可以考虑紧接在上所描述的一些因素。图10的过程可以开始于首先选择主脉冲波长λ_MP[方框400]。例如,如上所述,可以方便地使用主脉冲种子激光器,当通过放大器时该主脉冲种子激光器可以产生高功率并且自调谐到主要的波长,诸如10P(20)线,不需要种子激光器调谐机构。交叉参考图10和11,可以看到,选择了λ_MP,可以确定由于聚焦光学器件46的色差引起的主脉冲和预脉冲之间的可接受的焦点间距D_acceptable[方框402]。对于图11所示的配置,聚焦光学器件46可以包括引入色差的至少一个透镜或其它元件。如图11所示,色差可以导致波长λ1的预脉冲光束500聚焦在沿液滴路径504的位置502处,而波长λ2的主脉冲光束506聚焦在离开位置502的距离为“d”的位置508处。可接受的间距“d”之外,可能由于源材料上主脉冲强度的减小而引起EUV输出减小。图12示出在具有96mm清楚孔径和300mm焦距的ZnSe聚焦透镜的典型LPP系统中,液滴上主脉冲强度对预脉冲和主脉冲之间的波长差(λ_MP-λ_PP)标绘出的曲线图。从图12可以看到,对于约0.1μm的λ_MP-λ_PP,靶上的归一化的CO₂强度跌到0.8。λ_MP-λ_PP的另一个合适的范围可以是约0.2μm,其中归一化的CO₂输出强度跌到0.5。由于比靶上最优化CO₂强度还要低,CO₂强度的下跌将减小具有较小CE的EUV通过量。同样,较大的焦点大小还表示从激光器到靶材料的较差的能量耦合。对于EUV功率的产生,来自色散的两个结果都是不希望有的。在一些情况中,选中的距离D_acceptable可以取决于预等离子体扩容速度、预脉冲和主脉冲之间的最优延迟以及预脉冲和主脉冲的强度。返回参考图10,一旦确定了由于色差引起的主脉冲和预脉冲之间的可接受的焦点间距d_acceptable,方框[404]-[412]就建议一个试验和误差方法来选择预脉冲波长λ_PP。如所示,这可以包括选择用于分析的初始预脉冲λ[方框404]。接着,可以计算由于聚焦透镜的色差引起的主脉冲和预脉冲之间的焦点间距d_calculated[方框406]。如果d_calculated≤d_acceptable[方框408],则选中的预脉冲λ是合适的[方框410]。另一方面,如果d_calculated>d_acceptable,则选中的预脉冲λ是不合适的,要通过再执行方框[406]和[408]来分析另一个预脉冲波长[方框412]。然后按需要重复这个过程,直到得到合适的预脉冲波长。本技术领域中技术人员应该理解,旨在仅以上述实施例作为例子而非旨在限制由本申请宽广地设想的本主题的范围。本技术领域中技术人员应该理解,可以对所揭示的实施例进行添加、删除和修改,这都在这里揭示的本主题的范围内。旨在使所附的权利要求书落在范围内,并且意味着不仅覆盖了所揭示的实施例,而而且还覆盖了对于本技术领域中技术人员为显而易见的那些等效物和其它修改和变化。除非特别明确地表示,在下述权利要求书中以单数来表明一个元件或前面用“一个“来表明一个元件旨在指所述元件的“一个或多个”。不管权利要求书中是否明确地记载了本揭示,并不旨在以这里提供的本揭示专用于公开。